解析超声波清洗机和清洗原理

      半导体器件生产中玻璃硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。将超声波清洗机应用到玻璃硅片生产中，不仅环保还提高产品质量。

      2超声波清洗设备设备特点

      1.采用最新流行环保水基清洗工艺.该设计先进、合理,充分考虑了环保和节能的要求；

      2.全封闭式结构，运行部件设计防止污染;

      3.清洗机框架和烘干炉内均采用正压送风形式,保持运行时的风流始终外溢;

      4.清洗区域与维护区域隔离开，确保润滑油脂及运动磨损不会对清洗的产品产生二次污染;

      1清洗原理

      超声波清洗机是通过超声波发生器将高于频率为20KHz的震荡信号进行电功率放大后经超声波换能器(震头)的逆压电效应转换成高频机械振动能量通过清洗液体中的声幅射，使清洗液体分子振动并超声波清洗机产生无数微小空穴和气泡。并沿超声波传播方向在负压区形成、生长，并在正压区迅速闭合而产生上千个大气压的间瞬间高压而爆破，形成无数微观高压冲击波作用于管道璧的成垢杂质并将此粉碎。

      此即称之为超声波清洗中的“空化效应”。铜管超声波清洗机就是基于“空化效应”技术而工作的。从“空化效应”可知空穴和气泡是在液体中施加高频(超声频率)、高强度的声波而产生的。为此铜管超声波清洗机的组成都必须具备以下二个基本部件：高频高压大功率电信号的超声波发生器、以及能将电能转化为机械能(即压电逆效能)并经液体流通过的管道式高声强换能器。